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    GP2 Silverstone: Dos podios para el equipo de Racing Engineering

    11 de julio de 2011
    El Equipo Racing Engineering ha vuelto de Gran Bretaña con dos segundos puesto, uno para cada uno de sus pilotos, el joven español Dani Closs y el alemán Chris Vietoris.
    Dani Clos podio en GP2 Silverstone Dani Clos podio en GP2 Silverstone

    Ha sido un buen fin de semana para Racing Engineering, con dos segundas posiciones en las dos carreras del fin de semana, todo el equipo de Racing Engineering puede volver a casa satisfecho con el duro trabajo realizado durante el fin de semana y mirar con optimismo la siguiente cita del certamen, en Nurburgring dentro de dos semanas.

    En la primera de las carreras, el sábado, Vietoris estuvo en la lucha por la primera posición con Bianchi, el ganador de la misma, en la segunda mitad de la carrera estuvieron alternando el liderato ya con el suelo seco, ya que la carrera comenzó en mojado. Clos se clasificaba más atras, puesto sexto siendo uno de los más rápidos en la pista en muchas fases de la carrera.

    Con la parrilla invertida en las primeras posiciones, el domingo se celebraba la manga corta. Los dos pilotos de Racing Engineerin salían muy bien, Clos lideró la carrera en los inicios pero cedió a la presión de un rápido Grosjean que venía de atrás muy fuerte y se hizo con el liderato. Clos tuvo que pelear por el segundo puesto con Van der Garde al que superaba por 7 décimas en la última vuelta.

    /Com&Com

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